YMC-Triart是通过基质、颗粒、表面修饰3个(Tri)革新技术(art)而诞生的“重视使用简便性”的混合有机硅胶基质色谱柱，具有卓越的耐受性、良好的峰形和重现性等特点，是各种化合物分离的首选柱。
一、新开发的混合有机硅胶材料
通过持续可精密控制的新型造粒工艺，实现了有机硅烷层和无机硅烷层的多层复合结构的混合型颗粒，在维持无机硅胶基质色谱柱所具有的优秀分离选择性同时，还具有卓越的耐酸碱性。
二、微反应器造粒技术
Triart填料通过微反应器的造粒技术而获得表面光滑、粒径均匀且孔径均匀集中的颗粒，实现了低柱压及高度的表面修饰再现性，从而获得良好的峰形和优异的重现性。
三、新开发的表面修饰技术—多级非活性化（端基封尾）
Triart运用新开发的表面修饰技术，将反应性不同的多种非活性化剂按阶段与残留硅羟基结合，最大程度地降低硅羟基的残留量和活性，从而实现了卓越的耐久性和良好的峰形显示。
Triart系列色谱柱特点：
1、追求使用简便的混合硅胶基质色谱柱；
2、通过最新的造粒工艺及表面修饰技术，实现了在酸性条件到碱性条件下的超长使用寿命；
3、填料表面具有均衡的亲水性和疏水性，可用100%水相流动相；
4、对于大多数化合物及条件均能显示良好的峰形；
5、卓越的批间重现性。
由于TriartC18色谱柱采用了新开发的混合有机硅胶基质并进行了致密的表面修饰，因此具有卓越的耐受性和超长的使用寿命，并可以在较宽的pH范围内使用。在强碱或高温等极端条件下的寿命是市场上销售的高耐碱性C18柱的几倍以上，比以往的硅胶基质ODS柱相比为10倍以上。特别在碱性范围内使用时，使用三乙胺等有机类缓冲液笔磷酸缓冲液更能延长柱的使用寿命。此外，Triart的耐酸性也很优秀，对需要大量使用三氟乙酸(TFA)的多肽分析和制备提纯都十分有效。
新型的微反应器造粒技术获得了粒径与孔径均匀的表面光滑的球形颗粒，在实现了低柱压的同时，还实现了表面修饰的卓越再现性。
分析物为离子性化合物时，残留的硅醇基和填料表面存在的杂质等影响是引起峰形变差的主要因素，Triart采用将金属杂质的影响降至最低限度的混合有机硅胶基质，并进行了均一致密的表面修饰，因此可以避免拖尾，从而获得良好峰形。对于易引起吸附的碱性、酸性和配位性化合物，Triart都可以全部实现良好的峰形显示。
YMC-Triart提供多种官能团键合相，以满足不同分离需求：
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类型 |
键合相 |
pH范围 |
最高柱温 |
端基封尾 |
碳载量 |
应用 |
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Triart C18 |
C18 |
1.0-12.0 |
70℃ |
多级封尾 |
20% |
最佳首选色谱柱 |
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Triart C8 |
C8 |
1.0-12.0 |
70℃ |
多级封尾 |
17% |
快速分离分析疏水性差异较大的化合物 |
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Triart Phenyl |
苯基 |
1.0-10.0 |
50℃ |
多级封尾 |
-- |
最适于芳香族化合物的分离 |
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Triart PFP |
五氟苯基 |
1.0-8.0 |
50℃ |
无 |
-- |
最适于卤代化合物及异构体的分离 |
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Triart Diol-HILIC |
二羟丙基 |
2.0-10.0 |
50℃ |
无 |
-- |
最适于强极性化合物的保留与分离 |
YMC-Triart Diol-HILIC是一款在有机混合硅胶颗粒上化学键合了二羟基丙基的亲水性作用色谱柱（Hydrophilic Interaction Chromatography: HILIC）。其保留模式类似于正相,同时又突破了正相模式的溶剂局限,即采用反相溶剂系统,而按正相顺序出峰。此款色谱柱通过亲水性相互作用,可有效分离在反相色谱柱中因保留能力弱而难分离的强极性化合物。同时，因采用有机混合硅胶为基质,使其在耐碱性方面上有了飞跃式的提高,适用pH范围比常规柱更广。另一特点为键合了中性官能团的二羟基丙基,因此极大程度地降低了非特异性吸附,并可获得再现性良好的分离。
